因各微電子生產企業對電子級氫氟酸要求的標準不同，可將其劃分為四種子類目：

　　1 低檔產品，用于>1.2μmIC工藝技術的制作

　　2 中低檔產品，適用于0.8～1.2μmIC工藝技術的制作

　　3 中高檔產品，適用于0.2～0.6μmIC工藝技術的制作

　　4 高檔產品(UPss)，適用于0.09～0.2μm和<0.09μmIC工藝技術的制作。

　　對于高純度氫氟酸的制造主要包括三大步驟：第一項是對原始材料進行初步處理，分為物理處理和化學處理，

　　第二項開始對純度不太高的酸進行蒸餾提純。

　　第三項通過膜的物理過濾原理去掉分子結構較小的雜質。操作中相應設備的運行和操作需要緊密結合才能減少由于操作失誤或者不夠精確對于氫氟酸的提取產生影響。通常采取直線式的設置方式，以垂直流向為主。無水氟化氫或氫氟酸在上層，氫氟酸提純在中層，過濾、包裝及貯存在底層。

　　通過這樣的提純方式可以節約成本，提高效率，提高純度

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